Patrik Hábl: Avoid a Void
termín: 2010/02/03 - 2010/03/05
instituce: Galerie Dolmen
typ výstavy: autorská
Uvedená práce (dílo) podléhá licenci Creative Commons
Uveďte autora-Neužívejte dílo komerčně-Zachovejte licenci 3.0 Česká republika.
Uveďte autora-Neužívejte dílo komerčně-Zachovejte licenci 3.0 Česká republika.
Projekt je realizován s finanční podporou hl. m. Prahy, Ministerstva kultury ČR, Městské části Praha 4 a Státního fondu kultury ČR.
